大学・研究機関でグラフェンなど炭化水素系化合物での各種材料開発に適した、管状炉式の高温熱CVD装置です。少量・小サイズのテストピースが簡単な操作で作れるように小型化し、同時に大幅なコストダウンを実現しました。 また、従来小型では困難とされてきた5~100Paでの圧力コントロール機能を備え、より多様な処理パターンに対応可能としました。さらこ炭化水素系の可燃性ガスに対しては、警報検出による機器停止、大気放出ガス希釈ユニットなどの**装置を備えています。
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